Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam - Очищаюча пінка для обличчя

пінка, Що Очищає з насиченою текстурою подарує шкірі обличчя будь-якого типу розкішний щоденний догляд. Вона ретельно і одночасно дуже дбайливо очищає шкіру від забруднень, надлишків себума і залишків макіяжу, не порушуючи природного гідробалансу, не викликаючи відчуття сухості, стягнутості і дискомфорту. Пінка чудово готує шкіру до подальшого догляду, а також живить, пом'якшує і зволожує її, нормалізує і підтримуючи оптимальний рівень її зволоженості. Завдяки активним компонентам в складі, пінка вирівнює рельєф і колір обличчя, покращує загальний стан шкіри і запобігає її передчасне в'янення. Після використання пінки, шкіра набуває тривале відчуття бездоганної чистоти і свіжості, стає більш гладкою, м'якою, бархатистою і зволоженою.

Застосування: нанесіть невелику кількість засобу на долоню і злегка збийте, додаючи прохолодну або теплу воду. Дбайливо помасажуйте шкіру обличчя круговими рухами, потім ретельно змийте. Використовуйте вранці та / або ввечері.

Склад: Water (Aqua), Myristic Acid, Glycerin, Stearic Acid, Potassium Hydroxide, Sorbitol, Dipropylene Glycol, Lauric Acid, Peg- 60 Glyceryl Isostearate, Peg-32, Peg-6, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Glyceryl Stearate Se, Glycol Distearate, Polyquaternium-7, Fragrance (Parfum), Trisodium Edta, Butylene Glycol, Linalool, Citronellol, Geraniol, Butylphenyl Methylpropional, Iron Oxides ( Ci 77492), Rosa Canina Fruit Extract, Tocopherol, Iron Oxides (Ci 77491), Sophora Angustifolia Root Extract.

Виробник: Shiseido (Японія)
Серія: Future Solution LX
Тип шкіри: для всіх типів